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半導體設備整體國產化率僅10%左右,半导备介大致分為三個梯隊 ,体设
第一梯隊為大部分國產化的半导备介領域 ,主要為去膠設備;
第二個梯隊為小部分國產化的体设領域,主要包括清洗設備 、半导备介CMP設備 、体设刻蝕設備,半导备介國產化率在10-20%左右的体设水平;
第三梯隊為國產化起步階段的領域,主要包括薄膜沉積設備、半导备介離子注入設備、体设塗膠顯影設備等 ,半导备介國產化率大多在低個位數水平 。体设從國內半導體設備廠商合同負債及存貨情況來看,半导备介國內半導體設備廠商在手訂單充沛,体设份額加速提升邏輯將持續兌現